通第PET薄膜在縱向和橫向的F-5值在100~390MPa.但，這種薄膜對於長時（shí）間放聲或小尺寸的磁帶基膜是不夠用的。因這（zhè）些磁帶要求薄膜硬（yìng）度更大。薄膜的有效（xiào）硬度是與薄膜厚度3X膜模（mó）量成比例的（de），即使薄膜很薄，也應該有較高的模量（liàng）。高模量的薄膜是由增加薄膜分子取向獲得的。因（yīn）為縱向模量與磁帶運動性有關（guān），而橫向模量與磁頭接觸（chù）性有關，要求在兩個（gè）方向（xiàng）上都具有高模（mó）量。（磁帶的運動性好壞通常是由磁帶的伸長率、磁帶邊緣損壞及磁帶的折疊狀況來評價的）。

以（yǐ）下列（liè）舉了一些類型的拉（lā）伸薄膜（mó）：

①半拉伸薄膜（縱向F-5值（zhí）為130-150MPa）；

②一般拉伸薄膜（縱向F-5值為150~180MPa）；

③過拉伸薄膜（縱向F-5值為180~220MPa）；

④超過拉伸薄膜（縱向F-5值為220~260MPa）；

⑤雙側拉伸薄膜（縱（zòng）向F-5值為（wéi）150MPa；橫向F-5值為140MPa）.

隨著拉伸的增加，PET薄膜（mó）的熱收（shōu）縮率收縮（suō）率增加，熱收縮的變化是與F-5值的關係是不可逆的。

生產（chǎn）拉伸薄膜的基本過程如下：

（1）LD方向拉伸；（2）TD方向拉伸（shēn）；

（3）LD方向再拉伸；

（4）如果需要，TD方向再拉伸；

（5）熱固化。

LD方向再拉伸是相當困難的，因（yīn）為薄膜非常薄和寬，會導致（1）兩邊應成型得相當厚，以防此寬度（dù）減小；

（2）預熱和拉伸輥的偏差應該盡可能小；

（3）拉伸溫度應隨薄膜通過機器的進程而升高。

由（yóu）於再拉伸過程通常成本較高，因（yīn）此提出了（le）另一種方法以（yǐ）降（jiàng）低製造成本。這種新工藝的特點是，第一次的LD方（fāng）向拉伸分（fèn）兩步進行：

（1）流延薄膜首先在120~150℃在LD方向拉伸，控製拉伸比，使（shǐ）拉伸薄膜的雙折射值在0.005~0.025之間；

（2）之後第二（èr）次LD方向的（de）拉伸在60~100℃之間進行；

（3）這（zhè）樣獲得的單向拉伸薄（báo）膜在TD方向以4.3以上（shàng）的拉伸比（bǐ）進行（háng）拉伸；

（4）獲得雙向拉伸薄膜之後再熱固化。

根據這樣的加工工（gōng）藝，由於不（bú）需要再次拉（lā）伸過程，因此拉伸薄膜的製造成本較低。有各種（zhǒng）方法生產過拉伸薄膜，下麵（miàn）列舉了其中（zhōng）的一些方法。

（1）雙取向的薄膜再（zài）次（cì）同步雙（shuāng）向拉伸

第二（èr）次同步拉伸的拉伸比分別為：LD方（fāng）向為（wéi）1.05~1.90，TD方向為1.0~1.9.同（tóng）步拉（lā）伸的拉伸溫度在（Tg+10）℃和（Tm-40）℃之間（Tg：玻璃化轉變溫度；Tm.熔融溫（wēn）度）。

（2）多步LD方向拉伸（shēn）與再拉伸（shēn）相結合。

流延薄（báo）膜以多步形式在LD方（fāng）向拉伸（shēn）為雙折射值在0.02~0.10的單取向（xiàng）薄膜，之後薄膜（mó）以2.5~45的拉伸比在TD方向拉（lā）伸，並以1.5~2.5的拉伸比在LD方向再拉伸。經過LD、TD及（jí）LD拉伸產品的拉伸比高於25.

（3）多步LD拉伸與同步雙向（xiàng）拉伸相結合.

流延（yán）薄膜以多（duō）步形式在LD方向拉伸為雙折射值在0.02~0.10的單取向（xiàng）薄膜。之（zhī）後薄（báo）膜（mó）以高於2.5的拉伸比進行TD方向拉伸，之後進行同（tóng）步雙（shuāng）向拉伸，此時兩方向的拉伸比在1.4~2.5，產品總的拉伸比在27以上。

（4）伴有區域退火的區域拉伸。

區域拉伸和退（tuì）火包括在按壓點（diǎn）加熱的張力條件（jiàn）下的薄膜拉伸（shēn）和退（tuì）火（huǒ）。區域拉伸的目的是（shì）在防止結晶的（de）同時獲得較高的分子（zǐ）取向，它是通（tōng）過大（dà）致在Ts溫度時薄膜的頸縮拉伸（shēn）獲得的。區域退火的目的是在TC-Tm溫度（dù）之間較高的張力下，對拉伸（shēn）薄（báo）膜退火的方法，獲得分子（zǐ）鏈伸長的晶體。區（qū）域退火薄膜的LD方向模量幾乎是原薄膜的兩倍，盡管TD方向的（de）模量有所下降。

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